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當前位置：北京瑞科中儀科技有限公司>>產(chǎn)品展示>>多腔系統(tǒng)
簡要描述：刻蝕系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以...
簡要描述：集成等離子刻蝕和沉積的多腔系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿...
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